Dongguan Villo Technology Co., Ltd. ist stolz darauf, ein neues Patent für unser -Dest -Staubentfernungsgerät bekannt zu geben (Patent Nr. ZL2025100040318.0). Diese Innovation befasst sich mit einer kritischen Herausforderung bei der Herstellung von Halbleiter: Halten Sie Waferträger staubfrei, ohne sie zu beschädigen .
Die Herausforderung
In modernen Halbleiter Fabs werden Waferträger ständig von automatisierten Systemen zwischen den Stationen bewegt. Auch in Reinräumen kann sich Staub auf Träger ansammeln und die Produktqualität und Ertrag beeinflussen.
Traditionelle Reinigungsmethoden haben Einschränkungen:
- Manuelle Reinigung is slow and labor-intensive, often interrupting production.
- Reinigung auf Bürstenbasis risks scratching carriers or generating static, which can damage wafers.
Die Branche brauchte eine sicherere, effizientere und automatisierte Lösung.
Unsere Lösung
Das Villo-Gerät ist für die nicht kontaktische Reinigung von Waferträgern ausgelegt. Es kombiniert positive und Unterdruck -Isolierung mit automatisiertem Betrieb, um Staub effizient und sicher zu entfernen.
Wie es funktioniert:
- Nicht kontaktische Reinigung: Airflow removes dust without touching the wafer carrier, preventing scratches and static buildup.
- Positive und Unterdruckkammern: Capture and contain dust, avoiding contamination in the cleanroom.
- Automatisierter Betrieb: The device moves across multiple wafer carriers, cleaning efficiently with minimal human intervention.
Schlüsselvorteile
- Schützt Wafer und Fluggesellschaften – no physical contact means no damage or electrostatic risk.
- Steigerung der Produktivität – automated cleaning reduces downtime and manual labor.
- Gewährleistet die Integrität von Reinraum – advanced filtration and pressure isolation prevent dust from spreading.
- Nachhaltiges Design – efficient dust capture reduces waste and promotes greener manufacturing.
Warum ist es wichtig
Das Gerät von Villo löst einen kritischen Schmerzpunkt in der Halbleiterproduktion: Waferträger sauber halten und gleichzeitig einen hohen Ertrag und Effizienz beibehalten . Diese patentierte Lösung ist ideal für Fabriken, die Präzision, Automatisierung und Zuverlässigkeit erfordern.
Nach vorne schauen
Innovation ist das Herzstück von Villo. Unser patentiertes Staubentfernungsgerät zeigt unser Engagement für Semiconductor-Lösungen von grün, intelligent und leistungsstark . Da Fabs Scale und Prozesse komplexer werden, liefert Villo weiterhin Technologien, die den höchsten Standards der Branche entsprechen.
Weitere Informationen zu unserem Wafer Production Dust Entfernungsgerät oder zu unseren anderen fortschrittlichen Halbleiterlösungen finden Sie unter /Lösung/Semiconductor/ .
